2021年5月28日 (一社)日本真空工業会(略称JVIA)より当社開発の「シール方向切換ゲートバルブの開発・製品化」のテーマにより2020年度(一社)日本真空工業会表彰『真空コンポーネント・部品・材料部門賞』を受賞致しました。
受賞者(矢部学)コメントは以下の通りです。
今回賞を賜りました「シール方向切換ゲートバルブの開発・製品化」は、半導体製造装置の稼働率を向上させることを目的とした技術です。この機構を用いることで、搬送室の真空状態を保持したまま、成膜室の大気開放とメンテナンスが可能となり、ダウンタイム短縮が期待できます。この機構を従来ゲートバルブから基本性能を踏襲しつつ従来同等サイズで実現でき、装置への搭載のし易さも考慮した製品となります。
今後の業務においても、付加価値を高めお客様にとって魅力ある製品開発を行うことで、真空技術の発展に貢献するべく精進してまいります。本当に有難う御座いました。
写真:受賞者:山口真矢/営業部海外事業G長、矢部学/テクニカルセンター開発グループ長、須賀悠介/テクニカルセンター